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液晶检查显微镜简述

2020-09-01 | 来源:
主要特点:UIS无限远校正光学系统,提供出色的图像质量;人机工程学的进一步改善,使操作更为舒适;多种高度功能化的附件,能满足各种检验需要。用途:针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的,作为工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察,广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。<

主要特点:

    UIS无限远校正光学系统,提供出色的图像质量;

    人机工程学的进一步改善,使操作更为舒适;

    多种高度功能化的附件,能满足各种检验需要。

 

用途:

    针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的,作为工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察,广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。

 

优点:

    配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰,衬度好。

 

优势:

    紧凑的Y型匀设计,稳定且占地小;

    新的光路设计,光效率更高,采用长寿命卤素光源;

    反射专用镜体,可用于明场、简易偏光、微分干涉相衬观察;

    显微镜本体,反射照明器,物镜转换器都采用防静电设计(ESD)。

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