作为一种微观形态学工具，光学显微镜在工业测试方面的应用，目前主要大家比较熟悉的主要是以下方面：首先，单独作为形态学工具，进行材料组织分析和外观缺陷检查，其典型的产品是金相显微镜和立体显微镜。第二、光栅量测结合，进行部件的精密尺寸测量，其典型的产品是工具显微镜，测量显微镜。近年来，随着计算机软件技术的发展，显微镜与图象处理系统的结合，产生了定量金相软件、工显测量软件、一般几何测量软件等等，使其不仅可以定性分析，更能在定量化上发挥重大作用。但光学显微镜的局限在于，它是一种二维的形态学工具，其极限有效分辨率是0.35微米，该分辨率下的景深在1微米以下。因此如果要在高倍率下观察表面的三维形态，特别是纵向方向的形态，通常一定需要使用SEM而不是OM。SEM是这一方面非常成熟有效的标准工具，但有些样品使用SEM会碰到以下困难：1、   样品本身比较大，且不能做分割的器件组，虽然被观察的部分是微小的局部，但整个样品难以放入SEM中。2、   非金属样品，且不适合做导电性处理。特别是一些对微小处理很敏感的样品。3、无法测量多种尺寸数据，比如体积，面积，粗糙度等等。针对这些问题，SEM厂家在不断推出更新的技术。同时，光学显微镜也在探索如何使光学显微镜成为一种三维的微观形态学工具。这方面目前比较有成效的技术，是激光扫描共焦显微镜（CF-LSM）。共聚焦激光扫描显微镜的发展在国外，主要为日本。是从80年代末期开始的，目前在日本，共聚焦激光扫描显微镜已经是一种被广泛采用的技术，既用来观察样品表面亚微米程度（0.12微米）的三维形态和形貌，又可以测量多种微小的尺寸，诸如体积、面积、晶粒、膜厚、深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等等。另外，它还有以下特点：1、   使用方便,与一般光学相似,且全部采用计算机直观控制。2、   基本无须制样,不损伤样品。不需要做导电处理,也容许大尺寸样品直接观察,完全不破坏样品。3、   几十秒到一两分钟即完成全部的扫描，成像，测量采样工作。